快科技9月9日音书开yun体育网,据报说念,好意思国政府正在有计划将三星和 SK 海力士的中国晶圆厂的缔造入口许可改为年度许可证。
这一编削将较着增多监管复杂性,但至少不错保执晶圆厂运营的伙同性。
此前,三星和SK海力士享有经过考据的最终用户(VEU)身份,大致基于预先死守好意思国方法,获取入口受限晶圆厂缔造的全面批准,从而大大简化了运营经过,这多少可将在本年年底到期。
前不久有报说念称好意思国已将英特尔、SK海力士和三星从该计算中移除。
而好意思国商务部最近向韩国官员建议了一个“场面许可证”形状以取代VEU,字据这一形状,三星和SK海力士每年需要肯求一次,以获取一组固定缔造和材料的许可,并提前指定数目。
好意思国的关连截至波及用于制造16nm及更先进节点的FinFET晶体管逻辑芯片、半间距为18nm的DRAM以及128层及以上3D NAND闪存的好意思国器具。
这些截至始于2022年,英特尔、三星、SK海力士和台积电此前获取了豁免,以简化其在中国的晶圆厂运营。

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